真空烤盘炉
Vacuum Burning Furnace
设备概述 Summary Equipment
VBF系列真空烤盘炉应用于LED行业MOCVD石墨盘的真空烘烤工艺。
产品特点Main Features
l优质的材质保证了设备的密封性,提高了设备的整体性能
l法兰盘冷却水处理,密封处全部采用氟橡胶密封圈,保证设备的密封性及使用寿命
l内置冷却电机,保证设备的低漏率,且运行可靠
l真空室的压升率为5×10-3Torr/h,设备检漏用氦质谱仪进行检漏,漏率在E-11pa.m3/sec级
l全自动程序控制功能,自动化程度高,自动与手动可随时转换,处理异常情况极为方便
l关键部件全部采用进口部件,具有高可靠性
l具有良好的人机界面
l系统故障自诊功能
l完善的报警系统及安全系统
l具有历史记录功能
l该系统可根据用户的特殊要求增减开发相应的功能
技术指标Technical Parameter
v可烘烤石墨盘直径:φ480mm~φ1000mm
v可烘烤石墨盘数量:6~10盘/炉
v工艺温度: 1350℃
v载重量:120 kg~200 kg
v能耗置:90~120 KVA
v可控升温速率:10℃/min(空炉)
v温度均匀性:±4℃(800~1400℃)
v冷态真空度:10-3 Torr
